ആൻറിസ്റ്റാറ്റിക് ഫോം സിലിക്കൺ എന്നത് ഇലാസ്തികതയും ചാലക/ആൻ്റിസ്റ്റാറ്റിക് ഗുണങ്ങളുമുള്ള ഒരു തരം ഫങ്ഷണൽ മെറ്റീരിയലാണ്, ഇത് മെറ്റീരിയൽ ഘടനയുടെയും പോറസ് ഘടനയുടെയും സമന്വയ ഫലത്തെ അടിസ്ഥാനമാക്കിയുള്ളതാണ്.
സംയുക്ത റബ്ബറിലേക്ക് ചാലക ഫില്ലറുകൾ സംയോജിപ്പിച്ചാണ് ആൻ്റി-സ്റ്റാറ്റിക് പ്രകടനം പ്രാഥമികമായി കൈവരിക്കുന്നത്. ഈ ഫില്ലറുകളിൽ സിലിക്കൺ മാട്രിക്സിലെ ചാലക പദാർത്ഥങ്ങൾ ഉൾപ്പെടുന്നു, സാധാരണയായി കാർബൺ{2}}അധിഷ്‌ഠിത പദാർത്ഥങ്ങൾ, ലോഹപ്പൊടികൾ, സർഫാക്റ്റൻ്റുകൾ. കാർബൺ ബ്ലാക്ക്, കാർബൺ നാനോട്യൂബുകൾ, ഗ്രാഫീൻ തുടങ്ങിയ കാർബൺ അധിഷ്‌ഠിത വസ്തുക്കളും വെള്ളിയും നിക്കലും പോലെയുള്ള ലോഹപ്പൊടികളും (പിന്നീടുള്ളത് കൂടുതൽ ചെലവേറിയതാണെങ്കിലും). ഈർപ്പം ആഗിരണം ചെയ്യുന്നതിലൂടെ ചാലക പാതകൾ രൂപപ്പെടുത്തുന്ന അയോണിക് അഡിറ്റീവുകളാണ് സർഫക്ടാൻ്റുകൾ. ഈ ഫില്ലറുകൾ ഒരു ചാലക ശൃംഖല സൃഷ്ടിക്കുന്നു, യഥാർത്ഥത്തിൽ ഇൻസുലേറ്റിംഗ് സിലിക്കണിനെ വൈദ്യുതി നടത്തുന്നതിന് പ്രാപ്തമാക്കുന്നു. ചാർജ് ഡിസ്‌സിപ്പേഷൻ പാത്ത്‌വേ ഉപരിതല ഘർഷണത്താൽ സ്റ്റാറ്റിക് ചാർജുകൾ സൃഷ്ടിക്കപ്പെടുമ്പോൾ, ചാലക ശൃംഖല അതിവേഗം ചാർജുകളെ ഏകീകൃതമായി ചിതറുന്നു, ഇത് പ്രാദേശികവൽക്കരിച്ച ശേഖരണം തടയുന്നു. ഉപരിതല പ്രതിരോധം സാധാരണയായി 10^6 മുതൽ 10^10 Ω വരെ നിയന്ത്രിക്കപ്പെടുന്നു, ഇത് അമിത ചാലകത കാരണം ഷോർട്ട് സർക്യൂട്ടുകൾ ഉണ്ടാക്കാതെ ഇലക്ട്രോസ്റ്റാറ്റിക് ഡിസ്ചാർജ് (ESD) ഫലപ്രദമായി തടയുന്നു.
രണ്ടാമതായി, നുരയെ ഘടന സിനർജസ്റ്റിക് റൈൻഫോഴ്സ്മെൻ്റ് ഇഫക്റ്റുകൾ പ്രദർശിപ്പിക്കുന്നു. ഫോംഡ് സിലിക്കൺ ജെല്ലിൻ്റെ മൈക്രോ-പോറസ് ആർക്കിടെക്ചർ ആൻ്റി{2}}സ്റ്റാറ്റിക് പെർഫോമൻസ് ഒപ്റ്റിമൈസ് ചെയ്യുന്നു: ഇത് ഉപരിതല വിസ്തീർണ്ണവും വഴക്കവും വർദ്ധിപ്പിക്കുന്നു, അതേസമയം സെല്ലുലാർ ഘടന മെറ്റീരിയലിനെ ഭാരം കുറഞ്ഞതും കൂടുതൽ വഴക്കമുള്ളതുമാക്കുന്നു, ക്രമരഹിതമായ പ്രതലങ്ങളിലേക്ക് (ഉദാ, ഇലക്ട്രോണിക് ഘടക പാക്കേജിംഗ്) ഒട്ടിപിടിക്കാൻ സഹായിക്കുന്നു. പോറസ് ഉപരിതലം ഘർഷണ കോൺടാക്റ്റ് ഏരിയ കുറയ്ക്കുന്നു, അതുവഴി സ്രോതസ്സിലെ സ്ഥിരമായ വൈദ്യുതി ഉത്പാദനം കുറയ്ക്കുന്നു. ചാലക ശൃംഖലയുടെ ടോപ്പോളജിക്കൽ ഒപ്റ്റിമൈസേഷൻ: നുരയുന്ന സമയത്ത്, ചാലക ഫില്ലറുകൾ സെൽ ഭിത്തികളിൽ കൂടിച്ചേരുന്നു, ഇത് ചാർജ് ഡിസിപ്പേഷൻ കാര്യക്ഷമത വർദ്ധിപ്പിക്കുന്ന ഒരു 3D നെറ്റ്‌വർക്ക് ഘടന ഉണ്ടാക്കുന്നു. സെല്ലുലാർ ഘടന അയോണിക് ആൻ്റിസ്റ്റാറ്റിക് ഏജൻ്റുകളുടെ ഫലപ്രാപ്തിയെ സുഗമമാക്കുന്ന ഈർപ്പം ആഗിരണം ചെയ്യുന്നു.